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常压(大气)宽幅等离子设备
常压(大气)宽幅等离子设备
产品介绍

类型

宽幅等离子体清洗设备  Plasma Cleaning

型号

A/M/D款:100~3270mm(处理宽幅)

构成

等离子电源、UT气体控制单元、等离子电极单元

规格/性能

工艺气体

处理间距

处理温度

水滴角

N2 + CDA

 3~12mm

50ºC

10°(100mm/s)

产品优势:

1、更优良的处理效果:  放电面值增加至50mm,对比一般常压等离子清洗机可提升3~5倍的清洗效果。

2、更快速的处理速度: 最高可达8M/min

3、更低的过程处理温度:过程温度最低≤40ºC,有效保护产品,不产生热损伤。

4、更稳定的过程控制: 等离子放电更稳定,不产生电弧,不产生电损伤。

5、更低廉的使用成本: 使用氮气(N₂)和压缩空气(CDA)作为工艺气体,制氮机可供应,维护费用低。

6、更少的微尘产生: 独特的电极结构和处理方式,微尘(Particle) 产生最小化


产品应用:

1LCD(2G~11.5G)OLED生产制程中广泛使用。

2TP(触摸屏)生产制程中广泛使用。

3AF镀膜(防指纹),AS镀膜(防刮),AG镀膜(防炫),AR镀膜(增透)前处理。

4、显示屏 全贴合 前处理、显示屏ACF压合前处理。

5、金属薄膜(CuAl等)、非金属薄膜(PETPI等)卷材涂覆、粘接前表面处理。


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