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常压(大气)宽幅等离子设备
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常压(大气)宽幅等离子设备
类型 | 宽幅等离子体清洗设备 Plasma Cleaning | |||
型号 | A款/M款/D款:100~3270mm(处理宽幅) | |||
构成 | 等离子电源、UT气体控制单元、等离子电极单元 | |||
规格/性能 | 工艺气体 | 处理间距 | 处理温度 | 水滴角 |
N2 + CDA | 3~12mm | ≤50ºC | ≤10°(100mm/s) | |
产品优势: 1、更优良的处理效果: 放电面值增加至50mm,对比一般常压等离子清洗机可提升3~5倍的清洗效果。 2、更快速的处理速度: 最高可达8M/min。 3、更低的过程处理温度:过程温度最低≤40ºC,有效保护产品,不产生热损伤。 4、更稳定的过程控制: 等离子放电更稳定,不产生电弧,不产生电损伤。 5、更低廉的使用成本: 使用氮气(N₂)和压缩空气(CDA)作为工艺气体,制氮机可供应,维护费用低。 6、更少的微尘产生: 独特的电极结构和处理方式,微尘(Particle) 产生最小化 | ||||
产品应用: 1、LCD(2G~11.5G),OLED生产制程中广泛使用。 2、TP(触摸屏)生产制程中广泛使用。 3、AF镀膜(防指纹),AS镀膜(防刮),AG镀膜(防炫),AR镀膜(增透)前处理。 4、显示屏 全贴合 前处理、显示屏ACF压合前处理。 5、金属薄膜(Cu、Al等)、非金属薄膜(PET、PI等)卷材涂覆、粘接前表面处理。 |
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