真空等离子设备的配置功能与应用领域

　　真空等离子设备利用等离子体中各种高能物质的活化来完全剥离和去除附着在物体表面的污垢。以用氧等离子体去除物体表面的油脂和污垢为例，下面将解释这些效果。等离子体对油脂污垢的影响类似于油脂污垢的燃烧反应。但不同的是，它在低温下“燃烧”。的基本原理是，在氧原子自由基、激发的氧分子、电子和氧等离子体中的紫外线的共同作用下，油脂分子最终被氧化成水和二氧化碳分子，并从物体表面去除。

 

　　真空等离子设备由可编程控制器触摸屏控制。加工温度低，可控制在60以下。低温可以确保产品表面不会受到过高温度的影响。等离子清洗过程不会产生任何污染。加工效果非常均匀稳定。它可以处理各种类型和形状的样品，具有广泛的应用，如手机/电脑玻璃盖的表面清洗、蚀刻和活化、汽车、航空、塑料、印刷和包装、电子产品、医疗有机体、纺织工业、复合材料、金属材料和其他机械备件等。

 

　　真空等离子设备的加工温度可低至80和50以下，低加工温度可保证样品表面无热影响。真空等离子设备本身非常环保，不会产生任何污染，处理过程也不会产生任何污染。真空等离子设备清洗的处理效果非常均均匀稳定，经过常规样品处理后效果长期良好。它广泛应用于金属、微电子、聚合物、生物功能材料、低温杀菌和污染控制等领域。它是企业和科研机构的等离子体表面。

 

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