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真空等离子清洗设备的参数配置及应用

Date:2020-05-13 09:05:17 From:OKSUN

  真空等离子清洗设备采用低压激发等离子体作为清洗介质,有效避免了液体清洗介质对被清洗物体的二次污染。真空等离子清洗设备配有机械真空泵,可通过真空泵将等离子体反应后的污染物抽出,同时保持腔体的真空度。因此,有机污染物可以通过短时间清洗彻底清除。
  除了清洁功能,真空等离子清洗设备还可以根据特定条件下的要求改变某些材料的表面性质。在清洗过程中,真空等离子清洗设备的辉光放电可以增强这些材料的附着力、相容性和润湿性。适用于实验室和小规模生产。13.56兆赫射频电源可以用来匹配各种常见气体的等离子体。
 
  真空等离子清洗设备可以蚀刻材料的表面。等离子体中的大量离子、激发分子、自由基等活性粒子作用于固体样品表面,不仅在表面产生原有的污染物和杂质,还会产生刻蚀效应,使样品表面粗糙化,形成许多微坑,增加样品的比表面积。固体表面的润湿性得到改善。
 
  真空等离子清洗设备可去除金属表面的油脂、油污等有机物和氧化层,也可用于汽车制造过程中的塑料和油漆预处理。该真空等离子清洗设备可用于纺织品、过滤网和薄膜的亲水性、疏水性和表面改性处理,还可用于提高生物医用培养皿的活性,润湿血管支架、注射器、导管和各种材料,以及交叉涂层预处理。真空等离子清洗设备可用于绝缘材料、电子元件等的表面涂层预处理,也可用于清洗和蚀刻电路板。对薄膜、聚丙烯和其他材料进行非氧化和活化处理,以提高可焊性。
 
  真空等离子清洗设备可以深入到物体的小孔和凹槽中以完成清洁任务,因此不需要过多考虑待清洁物体的形状。此外,对这些难以清洗的零件的清洗效果与氟利昂相似,甚至更好。等离子清洗的真空度控制在100帕左右,容易达到。因此,该装置的设备成本不高,并且清洁过程不需要使用昂贵的有机溶剂,这使得整体成本低于传统的湿法清洁过程。
 
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