影响真空等离子设备清洗效果的原因

一、电极对真空等离子设备清洗效果的影响：

　　电极的设计对真空等离子设备清洗效果有很大影响，主要包括电极的材料、布局和尺寸。对于内部电极的等离子体清洗系统，由于电极暴露在等离子体中，一些材料的电极会被一些等离子体腐蚀或溅射，造成不必要的污染并导致电极尺寸的变化，从而影响等离子体清洗系统的稳定性。电极布局对等离子体清洗速度和均均匀性有很大影响。较小的电极间距可以将等离子体限制在狭窄的区域，从而获得更高密度的等离子体并实现更快的清洁。随着间距的增加，清洗速度逐渐降低，但均均匀度逐渐增加。电极的尺寸通常决定等离子体系统的总容量。在电极平行分布的等离子体清洁系统中，电极通常用作托盘。较大的电极可以一次清洁更多的部件，提高设备的运行效率。

 

二、工作压强对真空等离子设备清洗效果的影响：

　　工作压力是真空等离子设备清洗的重要参数之一。压力的增加意味着等离子体密度的增加和粒子能级均能量的减少。对于以化学反应为主的等离子体，密度的增加可以显著提高等离子体系统的清洗速度，而以物理轰击为主的等离子体清洗系统效果不明显。此外，压力的变化可能引起等离子体清洗反应机理的变化。例如，在硅晶片蚀刻工艺中使用的CF4/O2等离子体在压力较低时起主导作用，并且随着压力的增加，化学蚀刻不断增强并逐渐占据主导作用。

 

三、电源功率及频率对真空等离子设备清洗效果的影响：

　　电源的功率对等离子体的各种参数有影响，例如电极的温度、等离子体产生的自偏压和清洁效率。随着输出功率的增加，等离子体清洗速度逐渐增加并逐渐稳定在峰值，而自偏压随着输出功率的增加而不断增加。由于功率范围基本恒定，频率是影响等离子体自偏置的关键参数，自偏置随着频率的增加而逐渐减小。此外，随着频率的增加，等离子体中电子的密度将逐渐增加，而粒子能级均的能量将逐渐减少。

 

四：工作气体的选择对真空等离子设备清洗效果的影响：

　　工艺气体的选择是真空等离子设备清洗工艺设计的关键步骤。虽然大多数气体或气体混合物在许多情况下可以去除污染物，但是清洁速度可以相差几倍甚至几十倍。例如，将不同比例的氟化硫(SF6)添加到氧气(O2)中作为工艺气体来清洁有机玻璃。结果如图1所示。从图中可以看出，合理选择工艺气体可以大大提高清洗速度。

 

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